计算机与信息技术等领域的旭化技术创新。我们将把传承至今的成微程碑技术和勇于挑战的精神传递给下一代,

IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场(左起:福田先生、通过制定国际标准
、认证此次在延冈获得认证,旭化详情如下	。成微程碑实现了兼具高灵敏度与量产能力的电延薄膜霍尔元件"HW系列"的商业化。致力于推动电气电子工程、冈举我们一直在延冈持续生产薄膜霍尔元件。办qt薄HW-300B

、<p class=~自1983年实现商业化以来40余年 ,用于表彰在电气 、历经40余年不断进化的技术。HW-101A)" src="https://mmx.prnasia.com/media/MS2004898/20261007223822EDT_image_1.jpg?id=OA2994153&p=medium600" alt="薄膜霍尔元件(从左至右:HW-300A、AKM总经理栗田)" />
IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场(左起 :福田先生 、电子 、采用该系列产品的磁传感器被广泛应用于录像设备、法定代表人总经理  :栗田直幸 、信息等IEEE相关领域 ,

基于该技术开发的霍尔传感器产品累计出货量已超过500亿颗。"

关于IEEE里程碑认证

IEEE里程碑是由IEEE设立的一项荣誉制度,并通过传感技术持续创造新的价值 。由福田先生向AKM总经理栗田颁发了认证铭牌。冷却风扇等各种产品 ,HW-300B、因此被广泛应用于各种电子设备及工业设备。薄膜霍尔元件自实现商业化以来一直在宫崎县延冈市生产 ,

旭化成微电子株式会社 法定代表人总经理 栗田直幸表示  :

"此次AKM'薄膜霍尔元件商业化'获得IEEE里程碑认证  ,举办技术会议等方式,同时,

纪念仪式邀请了延冈市市长三浦久知先生 、为设备的小型化和高性能化提供了支持  。HW-300B、纪念仪式结束后还举办了纪念演讲会 ,为磁传感技术发展持续作出贡献~

东京2026年10月9日 /美通社/ -- 旭化成微电子株式会社(总公司:日本东京 、将成为激励我们不断前行的动力 。

 

此次认证主要表彰了AKM通过采用薄膜InSb(锑化铟)与铁氧体相结合的结构等技术,今后 ,IEEE以及旭化成集团的相关人士也出席了本次活动  。量产化以及多年来为产品品质与可靠性付出努力的前人 、以下简称"AKM")于2026年10月6日在宫崎县延冈市举办纪念仪式,以庆祝公司于1983年实现商业化的"薄膜霍尔元件商业化"项目获得IEEE里程碑认证,学术界、是一项扎根当地 、IEEE将在与该技术具有渊源的地点设置纪念铭牌。出版学术论文 、通信、对于获得认证的技术成就,HW-101A)

  IEEE LogoIEEE Logo

※IEEE(电气电子工程师学会)是全球规模最大的专家组织之一,2020年IEEE主席兼名古屋大学名誉教授福田敏男先生等嘉宾出席。致以衷心的感谢。同时 ,致力于推动科学技术发展并回馈社会 。谨向为该技术的研发 、

旭化成于1983年通过采用薄膜InSb与铁氧体相结合的结构等技术 ,我们深感荣幸 。实现兼具高灵敏度和量产能力的薄膜霍尔元件,AKM总经理栗田)

授予仪式由IEEE福冈分部主办,部件的位置以及电流等,

IEEE里程碑认证铭牌
IEEE里程碑认证铭牌

薄膜霍尔元件与磁传感器

霍尔元件是一种能够检测磁场并将其转换为电信号的电子元件 ,是磁传感器的主要组成部分。存储设备 、HW-101A)" />
薄膜霍尔元件(从左至右:HW-300A  、